FF-7800 Proceso de platado de plata libre de cianuro
1. Características
La capa de plata del proceso de platado de plata libre de cianuro FF-7800 es plata mate, con buena estabilidad de la solución de platado y fácil mantenimiento; alta eficiencia de corriente,buena capacidad de dispersión y cobertura; la fórmula libre de cianuro reduce en gran medida la contaminación del medio ambiente; la capa de chapa tiene una buena soldabilidad, buena conductividad y buena resistencia a la decoloración;y puede ser aplicado en las industrias de electrodomésticos, electrónica, equipos de telecomunicaciones y fabricación de instrumentos y medidores.
2- Flujo del proceso:
Pretreatment → Water washing → Activation → Water washing → Pre Silver Plating → Silver Plating → Recovery → Water washing → Water washing → Anti colour change treatment → Pure water washing (Temperature 50℃) → Pure water washing → Drying
3. Componentes de la solución de pre-placado:
Punto de trabajo | Estándar | Rango de acción |
Nitrato de plata | 2 g/l | 1 a 3 g/l |
Se trata de una serie de medidas: | 350 ml/l | 250 a 350 ml/l |
Agua pura | Residuos | Residuos |
4- Condiciones de operación de pre-placado
Condiciones de funcionamiento | Rango de acción |
Densidad de corriente del cátodo | 0.05~0.1A/dm2 |
El pH | 9 ~ 10.5 |
Temperatura | 20 ~ 30 °C |
El filtro | Filtración continua |
Anodo | Placas de plata |
5Plata sin cianurocomponentes de la solución de revestimiento:
Punto de trabajo | Estándar | Rango de acción |
Nitrato de plata | 28 g/l | 25 a 30 g/l |
FF-7800M | 600 ml/l | 500 a 700 ml/l |
Agua pura | Residuos | Residuos |
6Condiciones de operación para el revestimiento de plata sin cianuro
Condiciones de funcionamiento | Estándar | Rango de acción |
Densidad de corriente del cátodo | 0.5A/dm2 | 0.3~1.0A/dm2 |
Proporción de la superficie del cátodo/ánodo | 1, 2. ¿ Qué? | 1: 2 ~ 4 |
El pH | 9.5 | 9 ~ 10.5 |
Temperatura | 38°C | 35 ~ 45 °C |
El filtro | Filtración continua | Filtración continua |
Agitación (movimiento del cátodo) | 3 ̊4 m/min | 3 ̊4 m/min |