Proceso de recubrimiento de cobre con ácido directo; Substrato de acero solución de recubrimiento de cobre con ácido Brillante Recubrimiento de cobre; FI-ZL001
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Resaltar
Solución de recubrimiento de cobre con ácido de sustrato de acero
,Solución de revestimiento de cobre con ácido brillante
,Substrato de acero con revestimiento de cobre brillante
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TipoAbrillantador
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CaracterísticaRevestimiento con cobre ácido
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CaracterísticaRevestimiento directo de cobre
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sustratoAcero y acero inoxidable
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Lugar de origenPorcelana
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Nombre de la marcaFENGFAN
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Número de modeloLos requisitos de seguridad de los sistemas de gestión de datos
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Cantidad de orden mínimaNegociable
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PrecioNegociable
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Detalles de empaquetadoEmbalaje estándar de exportación
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Tiempo de entrega15-25 días laborables
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Condiciones de pagoLC, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
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Capacidad de la fuente200000pcs/día
Proceso de recubrimiento de cobre con ácido directo; Substrato de acero solución de recubrimiento de cobre con ácido Brillante Recubrimiento de cobre; FI-ZL001
Proceso de cobreado ácido directo ; Cobreado ácido directo sobre sustrato de acero ; Cobreado de cobre brillante
FI-ZL001
Proceso de cobreado ácido directo
Características
• Es un cobreado ácido sin cianuro sobre sustrato de acero y hierro, especialmente adecuado para el cobreado continuo.
• Puede ser la capa base, en lugar de níquel semibrillante o níquel Watt o cobreado de cobre alcalino con cianuro.
• El espesor de la capa de cobreado podría alcanzar más de 200μm.
• No contiene cianuro, por lo que es fácil tratar las aguas residuales y tiene poca contaminación para el medio ambiente.
• El mantenimiento del baño es simple y la vida útil es larga.
• Cobreado de cobre de alta velocidad, alta eficiencia de corriente y buena capacidad de cobreado profundo, especialmente adecuado para el cobreado de cobre de alta velocidad y alta corriente de rollo a rollo.
Condiciones de operación
| Condiciones de operación | Rango (cobreado en bastidor) | Composición del baño |
| Sulfato de cobre (CuSO4·6H2O) | 100～150g/L | 100g/L |
| Ácido sulfúrico (H2SO4) | 100～150g/L | 70g/L |
| A | 5～25ml/L | 25ml/L |
| B | 50~100ml/L | 50ml/L |
| C | 50 ~100ml/L | 50ml/L |
| Temperatura | 20~40℃ | 30℃ |
| Densidad de corriente del cátodo | 1~10A/dm2 | 3A/dm2 |
| Filtración | Filtración continua | |
| Agitación | Agitación del cátodo o agitación por aire | |
| Ánodo | Cobre fosforoso | |
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